首台化学洗刷机KS-CM300机台从飞渡路厂区顺畅启运出厂。KS-CM300单片式化学洗刷机是上海自主研制的首款高端设备，适用于Pre-deposition、Post-thinfilm、Post-etch、Post-imp、Post-CMP、PR-strip、NiPtremove等多种工艺，机台所用高温SPM清洗工艺被业界公认为对28nm/14nm制程功能要求最高的工艺之一，也是业界最具难度和应战的湿法工艺。
公司研制的该款设备机台功能及工艺技术致力于到达世界领先水平，能够在必定程度上完结26纳米以下少于30个剩下颗粒的处理，在接连跑片十万片条件下，可完成用户Up-Time≥95%、刻蚀均一性≤2%等苛刻性要求，其研制与验证有望处理国内客户的需求，对推进国产高端半导体清洗配备的开展具有极端严重战略意义，也是公司拓宽前道化学洗刷范畴的重要里程碑。
